ビームスプリッター (PBS)

BeamSplitterの概要

偏光ビームスプリッターの構成: これは通常、2つの直角プリズムの斜辺側を接合または光学的に接触させ、斜辺に偏光ビームスプリットフィルムを塗布することによって作成されます。 入射光中のP偏光は伝送され、S偏光は反射される。 反射防止コーティングは、一般に、光ビームのすべての入射および出口表面に適用される。

BeamSplitterの特徴

偏光ビームスプリッタは、入射光を2つの直交偏光成分に分割します。

• 送信されたライト (T): p偏光

• 反射光 (R): s-偏光

働くメカニズム:
光が斜辺面から垂直に直角プリズムに入ると、埋め込まれた多層コーティングが誘電体界面でブリュースターの角度屈折を誘発します

最適化された薄膜デザインを通じて:

P偏光は、ブリュースター角度条件によりほぼゼロの反射損失 (透過率> 90%) を経験します

S偏光は、複数のコーティング層にわたって累積反射を受け、> 99.5% の反射率を達成します

インシデントライト要件:

偏光制限なし: 自然光と事前偏光の両方を効果的に直交成分に分割できます

ビームスプリッターの仕様

BeamSplitterのカタログ

BeamSplitterのアプリケーション

1.多光子イメージング

光分離: 4分の1波長板 (QWP) と組み合わせたPBSは、光伝搬経路を制御する光アイソレータを作成します。 このセットアップは、直線偏光を円偏光に変換し、逆反射がイメージングシステムを破壊するのを防ぎます。

強度変調: PBSを半波板 (HWP) と統合することにより、HWPを回転させると入射光の偏光角度が調整され、光の強度と出力を正確に制御できます。

2.レーザー干渉

ビーム分割と干渉: マイケルソン干渉計では、PBSはレーザー光を2つの直交偏光ビーム (PとS) に分割します。 一方のビームは固定ミラーで反射し、もう一方のビームは移動ミラーで反射します。 これらのビームの再結合により、90 ° の位相シフトを伴う干渉パターンが生成され、光検出器を介した変位の正確な測定が可能になります。

ヘテロダイン干渉法: PBSは、ドップラーシフト検出を必要とするアプリケーション用にデュアル周波数レーザービームを分離し、航空宇宙および精密製造における測定精度を向上させます。

3.光学instrumentation

CNCマシンのエラー修正: PBSベースの干渉計は、CNCマシンを調整するために重要であり、ミクロンレベルのpを確保します機械的偏差を検出することによる再犯。

3Dイメージング: 立体ディスプレイでは、PBSは左眼/右眼チャネルの直交P/S偏光を分離し、偏光メガネと組み合わせると没入型3D効果を可能にします。

4.広帯域および狭帯域アプリケーション

ブロードバンドPBS (420〜1600 nm): 蛍光顕微鏡や調整可能なレーザーなど、広いスペクトルカバレッジを必要とするシステムに適しています。 これらのPBSは、広い波長にわたって高い消光比 (>1000:1) と低い吸収損失を維持します。

狭帯域PBS: 特定の波長に合わせて最適化されています (e。g。632.8nmまたは1700 nm) 、これらのコンポーネントは、複屈折結晶を介して線形偏光を円偏光に変換するために波板および光ファイバーシステムで使用されます (e。g。石英または方解石)。